自動勻膠機-愛姆加設備制造公司

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全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:2000000.00

價格:2000000.00

產品特點：  　   同一設備實現2"-12"晶圓 　   涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能 　   同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行 　   設備和各工位全封閉設計，不受外環境干擾 　   可獨立增加層流罩，提升小環境潔凈度 　   干濕分離，電液分隔 　   維護省力、簡便
全自動勻膠顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:1500000.00

價格:1500000.00

?產品特點：        設備實現2"-12"晶圓兼容       涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能       同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行       設備和各工位全封閉設計，不受外環境干擾       可獨立增加層流罩，提升小環境潔凈度       干濕分離，電液分隔       維護省力、簡便
12英寸自動勻膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:3000000.00

價格:3000000.00

自動勻膠顯影機 使用范圍： pumping高端封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領域PR工藝涂膠膠顯影； 產能：預估100wafer/H; 產品種類：晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物產品、邏輯類、存儲類芯片、 攝像頭芯片、功率器件芯片、OLED領域。
半自動涂膠顯影機－愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

特點： 手動上下取片 自動滴膠、甩膠、勻膠 供膠系統 排風系統 可配EBR&BSR功能
500方形基片涂膠機

全息光柵勻膠/顯影機

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

方形基片勻膠機，型號M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機）、大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝
彎月牙涂膠機(狹縫式涂布機-Slot Die Coater)

全息光柵勻膠/顯影機

市場價:50000000.00

價格:50000000.00

用途：主要用于光阻涂膠工藝，原理是借用于液體的漲力原理進行彎月牙涂膠，主要裝置就液刀口溢出的光阻涂布在基板表面。
方形基片顯影機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:20000000.00

價格:20000000.00

半自動顯影設備M+/D450-40，主要用于完成基片顯影工藝。 適應于方形基片尺寸為450×450×40mm的玻璃，承片臺固定基本，采購SUS材料，鑲嵌式固定方式。 手動放置基片，自動完成基片進行顯影、DI-Water清洗等工藝處理。
勻膠機-愛姆加電子

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:500000.00

價格:500000.00

勻膠機針對實驗室使用 特點： 高性能、低成本、手動型桌面旋涂機 最佳的旋轉與微機控制功能（旋轉、停止、斜坡加速、減速） 高旋轉精度±1RPM（無負載） 多功能工藝參數、工步設置  適用各種不同的大小和形狀的基片，通過改變CHUCK實現 編程簡單易操作
方形基片涂膠機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:800000.00

價格:800000.00

適應于方形基片尺寸為 200×200×（厚為 0.3-1.1）mm 的玻璃，承片方式采用無污染的 PEEK 材料，通過真空吸附，用金屬檔柱內嵌式固定方式?；邓尼?PIN 運動，方便手動放置、提取基片，自動完成基片滴膠、布膠、勻膠等工藝處理。
方形基片涂膠機

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

型號：Ｍ+-DS200C 主要特點： 適應尺寸：200mm×200mm t=8mm以下方形基片 具有旋涂、勻膠、清洗、吹氮功能 主軸采用德國進口電機及部件 高轉速、高精度±1RPM FFU功能（可選）
方形基片清洗系統

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

主要用途： 　　半自動方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED、及小型陶瓷基片的清洗等工藝。
方形基片處理系統

自動勻膠顯影機/自動清洗機

市場價:0.00

價格:0.00

主要用途：半自動方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED、及小型陶瓷基片的涂布、顯影、清洗等工藝。

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