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半導體晶圓清洗機－WET BENCH



      

      

      

 
      
	
	
      
		
      
	
      	
  
  
  
      
 
      
 





                                      
                                
			
      

      




      

      


	
      半導體晶圓清洗機－WET BENCH
      

          發布時間: 2020-11-25 17:09    
      

      

      RCW
      


      




      
	
      
		
       
      
		
		
      
	
      
	  
      
	
      
	
      
		
      
		
      
        
			
                 
			  
      
              
      
					
        
						
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      • 
								APM1#液去表面顆粒及金屬雜質
							
        • 
							
      • 
								HPM2#液去金屬粒子
							
        • 
							
      • 
								SPM3#液,去污及部分金屬
							
        • 
							
      • 
								DHF去氧化層和金屬粒
							
        • 
							
      • 
								QDR去離子水沖洗
							
        • 
						
      

					
      
					
      
						
					
      
					
      
						
					
      
					
      
						
					
      
					
      
						
					
      

      
				
      

      

      
				
      
					
						
      
							
								
      
							      		
						
      
					      
				
      
			      		
		
      
	      

      

      	
      

          
      
	   
	
		
      
			
      
	
	
      

          
      
     
      	


      





 

	  
	


 
  
	

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