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勻膠顯影機的功能
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5
勻膠顯影機的功能
來源:
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作者:
pmoe2a7d5
|
發布時間:
2020-03-27
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勻膠顯影機一般由四部分組成。第一部分是晶圓盒工作站(wafer cassette station),
晶圓盒
在這里裝載到機器上。機械手(robot arm)從晶圓盒中把晶圓抽出來,傳送到工藝處理部分(process block),即第二部分。工藝處理部分是勻膠顯影機的主體,增粘模塊(adhesion enhancement)、熱盤(hot plate)、冷盤(chill plate)、旋涂、顯影等主要工藝單元都安裝在這里,一個或兩個機械手在各單元之間傳遞晶圓。第三部分是為浸沒式光刻工藝配套的單元,包括晶圓表面水沖洗單元、背清洗單元等。第四部分是和光刻機聯機的接口界面(interface),包括暫時儲存晶圓的緩沖盒(buffer)、晶圓邊緣曝光(wafer edge exposure,WEE)和光刻機交換晶圓的接口等。
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